Графитните чамци Semicorex PECVD, со супериорна топлинска униформност и хемиска отпорност ја оптимизираат конзистентноста на таложење на филмот при обработка на полупроводници на висока температура. Semicorex испорачува приспособени полупроводнички компоненти со високи перформанси до глобалните клиенти кои бараат строго обезбедување на квалитет и доверливост.*
СемикорексГрафитни чамци PECVDсе суштински тела со висока чистота дизајнирани за системи за хемиско таложење на пареа засилени со плазма, широко користени во производството на полупроводнички уреди и производството на фотоволтаични ќелии. Изградени од изотропни графит со висока густина и често зајакнати со заштитна обвивка со хемиско таложење на пареа силикон карбид (CVD-SiC), овие чамци обезбедуваат исклучителна топлинска спроводливост, супериорна отпорност на реактивни процесни гасови и минимално создавање честички. Со одржување на рамномерна дистрибуција на температурата низ целата зона на таложење,Графитни чамци PECVDобезбедуваат одлична униформност на дебелината на филмот и стабилност на електричните својства за слоевите со тенок слој. Оваа напредна конфигурација на материјалот спречува дифузија на метални нечистотии во подлогата на обландата, значително подобрувајќи ја приносот на уредот и долгорочната оперативна сигурност во опкружувањата за производство со тешки барања.
Преку напредна наука за материјали и прецизна CNC обработка, овие специјализирани компоненти ја минимизираат фреквенцијата на одржување и времето на прекин во критичните производни линии за микроелектроника.
1. Основната улога на графитните чамци PECVD во таложење на тенок филм
Хемиско таложење на пареа засилено со плазма во голема мера се потпира на стабилните носачи за позиционирање и поддршка на подлогите под средини со низок притисок и реактивен гас. Дизајнот на носачот директно влијае на динамиката на спојувањето на плазмата и протокот на гас внатре во комората за реакција.
Нашите конструирани решенија обезбедуваат прецизно растојание на обландите и сигурно задржување, намалувајќи ги зоните на исклучување на рабовите и спречувајќи поместување на подлогата за време на чистење на гас со голема брзина. Понатаму, исклучителната хемиска инертност на нашитесилициум карбид (SiC)Заштитните слоеви на површината ја штитат основната графитна матрица од агресивни плазми за чистење базирани на флуор или хлор, со што значително го продолжува животниот век на компонентите.
2. Својства на материјалот и технички спецификации
За да се задоволат строгите барања за чистота на модерните фабрички капацитети, Semicorex ги произведува ситеГрафитни чамци PECVDединица која користи ултра-чистаграфитни суровинисо содржина на пепел намалена под 5 ppm.
|
Материјална сопственост |
Типична спецификација |
Оперативна корист |
| Основен материјал |
Фино-житоИзостатски графит |
Висока механичка сила и отпорност на термички удари. |
| Тип на облога |
Прилагодено, CVD SiC |
Целосно запечатување против пропустливост на гас и хемиски напад. |
| Масовна густина |
> 1,85 g/cm³ |
Ниска порозност и зголемен структурен интегритет. |
| Коефициент на термичка експанзија |
4,5 x 10-6 /K (20-1000°C) |
Спречува искривување и термички замор при брзо возење велосипед. |
| Чистота на елементот |
> 99,999% (Оценка со висока чистота) |
Ги елиминира ризиците од вкрстена контаминација за време на растењето на филмот. |
Клучни предности
Супериорна топлинска униформност:Високата топлинска спроводливост ги спречува жариштата, обезбедувајќи постојано таложење на слојот низ сериите со повеќе обланди.
Зголемена издржливост:Цврстата керамичка обвивка од SiC штити од механичко абразија при автоматско полнење и растоварување на нафора.
Прилагодени геометрии на слот:Дизајниран според техничките цртежи на специфични клиенти за да се приспособат на различни димензии на нафора и типови на реактори.