Што е MOCVD систем?

MOCVD, познат како Метално-органско хемиско таложење на пареа (MOCVD), е техника за одгледување на тенки полупроводнички филмови на подлога. Со MOCVD, многу нано-слоеви може да се депонираат со голема прецизност, секој со контролирана дебелина, за да формираат материјали со специфични оптички и електрични својства.

Системот MOCVD е тип на систем за хемиско таложење на пареа (CVD) кој користи метални органски прекурсори за депонирање на тенки слоеви материјал на подлогата. Системот се состои од сад за реактор, систем за испорака на гас, држач за подлогата и систем за контрола на температурата. Металните органски прекурсори се внесуваат во садот на реакторот заедно со носач на гас, а температурата е внимателно контролирана за да се обезбеди раст на висококвалитетен тенок филм.

Употребата на MOCVD има неколку предности во однос на другите техники на таложење. Една од предностите е тоа што овозможува таложење на сложени материјали со прецизна контрола врз дебелината и составот на тенките филмови. Ова е особено важно за производство на полупроводнички уреди со високи перформанси, каде што својствата на материјалот на тенките филмови може да имаат значително влијание врз перформансите на уредот.

Друга предност на MOCVD е тоа што може да се користи за таложење на тенки филмови на различни супстрати, вклучувајќи силициум, сафир и галиум арсенид. Оваа флексибилност го прави суштински процес во производството на широк опсег на полупроводнички уреди, од компјутерски чипови до LED диоди.

Системите MOCVD се широко користени во индустријата за полупроводници и тие се од голема важност во развојот на многу напредни технологии. На пример, MOCVD се користи за производство на високоефикасни LED диоди за апликации за осветлување и прикажување, како и соларни ќелии со високи перформанси за фотоволтаични апликации.