8 -инчен врвен прстен Епи

Semicorex 8 -инчен EPI Top Ring Ring е специјализирана компонента на системите за таложење на епитаксијално (EPI) кои обезбедуваат високи перформанси како врвен прстен на комората за реакција. Со фокус на структурниот интегритет и термичката стабилност за време на епитаксијалниот раст на полупроводничките нафори, врвниот прстен ЕПИ е изработен од графит со висока чистота и обложен со силиконски карбид (SIC) за да издржи на температурата и хемиски реактивни околини на производство на полупроводници.

Кај епитаксијалните реактори, горниот прстен помага да се задржи нафтата на животната средина и игра важна улога во температурната униформност и протокот на гас за време на таложењето како дел од склопот на подложникот. СИЦ облогата на графитскиот подлога го обезбедува врвниот прстен на ЕПИ со термичка стабилност и инерцијална околина потребна за заштита на графитското јадро заради изложеност на гасови со процеси за време на перформансите на врвниот прстен на ЕПИ (водород, силан, клоросилани, итн.). Цврстината и спроводливоста на SIC слојот ги подобруваат перформансите на врвниот прстен на ЕПИ со спречување на деградација и овозможување на постабилни слоеви во текот на производниот циклус.

Со посветеност на димензионална точност, конзистентност на облогата и повторливост, врвниот прстен од 8 инчи ЕПИ се произведува со прецизно инженерство. Подлогата на графитот е машински за тесни толеранции и термички прочистена за да се одвојат нечистотии, испорачувајќи чиста подлога со одлична чистота и јачина. СИЦ облогата се применува преку таложење на хемиска пареа (CVD), за да се формира густ, конзистентен и силно врзан заштитен слој. Овој процес ја минимизира генерирањето на честички и му овозможува на облогата да го одржува интегритетот на површината за време на проширена употреба.

Производителите на полупроводници се потпираат на врвниот прстен на ЕПИ за одржување на критичните параметри на комората и поддршка на нафорите без дефекти за време на производството. Конфигурацијата е дизајнирана за употреба со водечки системи за обработка на нафта OEM 8-инчи. Прилагодени опции се достапни за дебелина, финиш на површината и жлебови дизајни за подобро термичко управување или дури и дистрибуција на гас.

Во согласност со својствата на графитот обложен со SIC за оваа апликација е комбинација најдоброто од својствата од двата материјали; Графитот е многу машински и има отпорност на термички шок во комбинација со силикон карбид кој е потежок, отпорен на корозија и има подолг животен век. Оваа комбинација на крајот ви дава врвен прстен ЕПИ кој е сигурен на висока температура и гарантира чиста и стабилна околина за обработка што ги намалува интервалите за одржување и обезбедува целокупна подобрена опрема за време на времето.

Графитните компоненти играат неопходна и клучна улога во производството на полупроводници. Квалитетот на графитниот материјал значително влијае на квалитетот на готовиот производ. Нашата конзистентност на серија на графит и материјална хомогеност се контролираат и гарантираат во текот на целиот процес на производство.

1. Производство на серија, користејќи мала печка за карбонизација со капацитет од само 50 кубни метри.

2. Секое парче материјал се следи и следи.

3.Семпертната мониторинг на повеќе точки во рамките на печката обезбедува минимални разлики во температурата.

4.Поставување на мониторингот на повеќе точки на материјалот обезбедува минимални разлики во температурата.

8-инчниот врвен прстен ЕПИ од Semicorex нуди исклучителни перформанси, конзистентност на серија до серија и докажана сигурност во најтешките полупроводници на силикон, силиконски карбид или други сложени полупроводници на епитаксијата. На секој чекор во производството, ние произведуваме производи со контрола на квалитетот, што значи дека секој производ купен за полупроводна индустрија ги надминува спецификациите за квалитетот.

Изберете го горниот прстен на EPI на Semicorex од 8 инчи за вашата апликација за епитакси за да ги искористите можностите што се нудат преку прецизно инженерство, супериорни материјали и прилагодување специфична за апликација за подобрување на приносите и перформансите на уредот.