CVD TaC облога

Семикорекс CVD TaC прекривката за обложување може да се пофали со импресивна цврстина, која обично достигнува 2500-3000 HV на скалата на Викерс. Оваа исклучителна цврстина произлегува од неверојатно силните ковалентни врски помеѓу атомите на тантал и јаглерод, формирајќи густа, непробојна бариера против абразивно абење и механичка деформација. Во практична смисла, ова се преведува на алатки и компоненти кои остануваат поостри подолго, ја одржуваат прецизноста на димензиите на обвивката CVD TaC и обезбедуваат постојани перформанси во текот на неговиот животен век.

Графитот, со својата единствена комбинација на својства, има огромен потенцијал за широк опсег на апликации. Сепак, неговата вродена слабост често ја ограничува неговата употреба. CVD TaC облогите ја менуваат играта, формирајќи неверојатно силна врска со графитните подлоги, создавајќи синергистички материјал кој го комбинира најдоброто од двата света: високата топлинска и електрична спроводливост на графитот со исклучителна цврстина, отпорност на абење и хемиска инертност на CVD TaC облога.

Брзите температурни флуктуации во реакторите со епитакси може да предизвикаат хаос на материјалите, предизвикувајќи пукање, искривување и катастрофален дефект. Меѓутоа, CVD TaC облогата има извонредна отпорност на термички шок, способна да издржи брзи циклуси на загревање и ладење без да се загрози нивниот структурен интегритет. Оваа еластичност произлегува од уникатната микроструктура на CVD TaC Coating Cover, која овозможува брзо проширување и контракција без генерирање значителни внатрешни напрегања.

Од корозивни киселини до агресивни растворувачи, хемиското бојно поле може да биде непростливо. Сепак, CVD TaC облогата е цврста, покажувајќи извонредна отпорност на широк спектар на хемикалии и корозивни агенси. Оваа хемиска инертност го прави идеален избор за примена во хемиска обработка, истражување на нафта и гас и други индустрии каде компонентите рутински се изложени на сурови хемиски средини.

Тантал карбид (TaC)  Облога на микроскопски пресек

Други клучни апликации во опремата за епитаксии:

Сензиптори и носачи на нафора:Овие компоненти ја држат и загреваат подлогата за време на епитаксијалниот раст. CVD TaC облогите на сензорите и носачите на обланда обезбедуваат рамномерна дистрибуција на топлина, спречуваат контаминација на подлогата и ја подобруваат отпорноста на искривување и деградација предизвикани од високите температури и реактивните гасови.

Гасни инјектори и прскалки:Овие компоненти се одговорни за доставување прецизни текови на реактивни гасови до површината на подлогата. CVD TaC облогите ја подобруваат нивната отпорност на корозија и ерозија, обезбедувајќи доследна испорака на гас и спречување на контаминација со честички што може да го наруши растот на кристалите.

Облоги на комората и топлински штитови:Внатрешните ѕидови на епитаксичните реактори се подложени на интензивна топлина, реактивни гасови и потенцијално таложење. CVD TaC облогите ги штитат овие површини, продолжувајќи го нивниот животен век, минимизирајќи го создавањето на честички и поедноставувајќи ги процедурите за чистење.