Плоча за офорт со плазма ICP

Плочата за офорт со плазма ICP на Semicorex обезбедува супериорна отпорност на топлина и корозија за ракување со нафора и процеси на таложење на тенок филм. Нашиот производ е дизајниран да издржи високи температури и грубо хемиско чистење, обезбедувајќи издржливост и долговечност. Со чиста и мазна површина, нашиот носач е совршен за ракување со недопрени наполитанки.

Испрати барање

Опис на производот

Кога станува збор за таложење на тенок филм и ракување со обланда, верувајте во ICP плазма офортската плоча на Semicorex. Нашиот производ нуди супериорна отпорност на топлина и корозија, дури и топлинска униформност и оптимални модели на ламинарен проток на гас. Со чиста и мазна површина, нашиот носач е совршен за ракување со беспрекорни наполитанки.

Нашата плоча за офорт со плазма ICP е дизајнирана да ја постигне најдобрата шема на ламинарен проток на гас, обезбедувајќи рамномерност на термичкиот профил. Ова помага да се спречи каква било контаминација или дифузија на нечистотии, обезбедувајќи висококвалитетен епитаксијален раст на чипот на нафора.

Контактирајте со нас денес за да дознаете повеќе за нашата ICP плоча за офорт со плазма.

Параметри на ICP плазма офортска плоча

Главни спецификации на CVD-SIC облогата
Својства на SiC-CVD
Кристална структура	FCC β фаза
Густина	g/cm ³	3.21
Цврстина	Викерс цврстина	2500
Големина на зрно	μm	2~10
Хемиска чистота	%	99.99995
Топлински капацитет	J kg-1 K-1	640
Температура на сублимација	℃	2700
Фелексурална сила	MPa (RT 4-точка)	415
Модул на Јанг	Gpa (свиткување 4 точки, 1300℃)	430
Термичка експанзија (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Топлинска спроводливост	(W/mK)	300