ICP Силиконски јаглерод обложен графит

ICP со силикон јаглерод обложен графит на Semicorex е идеален избор за напорно ракување со нафора и процеси на таложење на тенок филм. Нашиот производ може да се пофали со супериорна отпорност на топлина и корозија, дури и топлинска униформност и оптимални модели на ламинарен проток на гас.

Испрати барање

Опис на производот

Носачите на нафора што се користат во обработката на епитаксијален раст мора да издржат високи температури и грубо хемиско чистење. Семикорекс ICP Силиконски јаглероден обложен графит чувствителни се дизајнирани специјално за овие тешки апликации за опрема за епитаксија. Нашиот производ е дизајниран да издржи високи температури и грубо хемиско чистење, обезбедувајќи долговечност и оптимални резултати.
Нашиот графит обложен со силикон јаглерод ICP е дизајниран да ја постигне најдобрата шема на ламинарен проток на гас, обезбедувајќи рамномерност на термичкиот профил. Ова помага да се спречи каква било контаминација или дифузија на нечистотии, обезбедувајќи висококвалитетен епитаксијален раст на чипот на нафора.
Контактирајте со нас денес за да дознаете повеќе за нашиот графит обложен со силикон јаглерод ICP.

Параметри на ICP силикон јаглерод обложен графит

Главни спецификации на CVD-SIC облогата
Својства на SiC-CVD
Кристална структура	Фаза FCC Î²
Густина	g/cm ³	3.21
Цврстина	Викерс цврстина	2500
Големина на зрно	¼ м	2~10
Хемиска чистота	%	99.99995
Топлински капацитет	J·kg-1·K-1	640
Температура на сублимација	℃	2700
Фелексурална сила	MPa (RT 4-точка)	415
Модул на Јанг	Gpa (свиткување 4 точки, 1300)	430
Термичка експанзија (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Топлинска спроводливост	(W/mK)	300