Горна половина месечина

Semicorex горната половина месечина е полукружен носач на нафора, прецизно дизајниран за опрема за епитаксична обработка. Како критична компонента на суксетор во процесот на епитаксијален раст, овој дел е дизајниран да ги поддржува и стабилизира силиконските нафора за време на таложење на хемиска пареа со висока температура (CVD). Произведено од графит со висока чистота и заштитено со униформа облога на силиконски карбид (SIC), горната половина месечина комбинира механичка робусност, одлична топлинска спроводливост и исклучителна отпорност на корозија за да се исполнат барањата на епитаксијата со голема прецизност.

Овој производ го носи своето име од својата посебна полу-месечна геометрија, која е изградена за специфични ротациони платформи во едно-супа или мулти-важни епитаксични реактори. Неговата уникатна форма не само што го олеснува униформниот проток на гас и термичката дистрибуција, туку исто така овозможува и лесна интеграција во постојните склопови за греење и ротација. Полу-кружниот дизајн обезбедува оптимално позиционирање на нафора, го минимизира термичкиот стрес и игра клучна улога во постигнувањето на униформа дебелина на епитаксијалниот филм низ целата површина на нафора.

Горниот половина месечен производ вклучува подлога на ултра фино графит заради комбинираните придобивки од перформансите на стабилна ултра-филна структура на екстремно високи температури заедно со отпорност на неуспех во текот на повторените работи. За да се прошири употребата, со голема чистота густа SIC облога беше применета со хемиска технологија за таложење на пареа, изолирајќи ја графитната подлога од HCl, Cl₂, Silane и други корозивни процеси. Без оглед, облогата на SIC промовира потрајен и попространат живот и на горниот дел од месечината и деловите во неговата тоталитет, додека дури и го намалува загадувањето на нафтата на животната средина, на крајот од корист на приносот на процесот и квалитетот на филмот.

Површинската завршница на SIC слојот е одредена и е рамна или мазна за да се промовира постојан пренос на топлина во подлогата и постојана формација на филмови. Покрај тоа, SIC облогата ја подобрува отпорноста на компонентата на генерирање на честички што е клучен фактор на апликации за полупроводници чувствителни на дефекти. Параметрите за перформанси, вклучително и многу ниско излегување и многу ниска деформација над 1200 ° C, обезбедуваат ефективни компоненти за многу долги циклуси на работа, намалување на намалувањето на системот и трошоците за одржување.

Полу -месечината на полувремето на Semicorex не е втора во однос на толеранциите, униформноста на облогата и изборот на материјали. Ние одржуваме строга контрола на квалитетот на секој чекор, од графитната машинска обработка, до таложење на SIC облоги и конечна инспекција, обезбедувајќи секоја единица да ги исполнува ригорозните стандарди потребни за опрема за полупроводници. Покрај тоа, нашето искуство во прилагодување на геометријата, дебелината и површинските третмани се признава дека се применува на скоро сите форми на епитаксични платформи.

Горната половина месечина е критички важна за стабилноста на нафтата, термичката униформност и контролата на загадување за силикон или сложена полупроводничка епитакси. Соодветно на тоа, Semicorex ја поттикнува неспоредливата експертиза, материјалната технологија и производната конзистентност за да се постигнат очекувањата на клиентите за сигурни компоненти на подложни со високи перформанси.