ICP Послужавник за офорт со плазма

Послужавникот за офорт со плазма ICP на Semicorex е дизајниран специјално за процеси на ракување со нафора со висока температура, како што се епитаксија и MOCVD. Со стабилна отпорност на оксидација на висока температура до 1600°C, нашите носачи обезбедуваат рамномерни термички профили, модели на ламинарен проток на гас и спречуваат контаминација или дифузија на нечистотии.

Испрати барање

Опис на производот

Нашиот сад за офорт со плазма ICP е обложен со силициум карбид со помош на методот CVD, што е идеално решение за процесите на ракување со нафора кои бараат високотемпературно и грубо хемиско чистење. Носачите на Semicorex се карактеризираат со фина SiC кристална обвивка која обезбедува дури и термички профили, модели на ламинарен проток на гас и спречува контаминација или дифузија на нечистотии.
Во Semicorex, ние се фокусираме на обезбедување висококвалитетни, економични производи за нашите клиенти. Нашата плоча за офорт со плазма ICP има предност во цената и се извезува на многу европски и американски пазари. Наша цел е да бидеме ваш долгорочен партнер, обезбедувајќи производи со постојан квалитет и исклучителна услуга за клиентите.
Контактирајте со нас денес за да дознаете повеќе за нашата ICP плазма фиока за офорт.

Параметри на ICP плазма фиока за офорт

Главни спецификации на CVD-SIC облогата
Својства на SiC-CVD
Кристална структура	Фаза FCC Î²
Густина	g/cm ³	3.21
Цврстина	Викерс цврстина	2500
Големина на зрно	¼ м	2~10
Хемиска чистота	%	99.99995
Топлински капацитет	J·kg-1·K-1	640
Температура на сублимација	℃	2700
Фелексурална сила	MPa (RT 4-точка)	415
Модул на Јанг	Gpa (свиткување од 4 точки, 1300)	430
Термичка експанзија (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Топлинска спроводливост	(W/mK)	300