Хемиско таложење на пареа (CVD) се однесува на процесна технологија каде што повеќе гасовити реактанти при различни парцијални притисоци подлежат на хемиска реакција под специфични услови на температура и притисок. Добиената цврста супстанција се депонира на површината на материјалот на подлогата, с......
Прочитај повеќеВо модерната електроника, оптоелектрониката, микроелектрониката и областите на информатичката технологија, полупроводничките подлоги и епитаксијалните технологии се незаменливи. Тие обезбедуваат цврста основа за производство на полупроводнички уреди со високи перформанси и висока доверливост. Како ш......
Прочитај повеќеНеодамна, нашата компанија објави дека компанијата успешно развила 6-инчен монокристал Галиум оксид користејќи го методот на лиење, со што стана првата домашна индустријализирана компанија која ја совладала технологијата за подготовка на еднокристална подлога Галиум оксид од 6 инчи.
Прочитај повеќеПроцесот на раст на монокристален силикон претежно се случува во термичко поле, каде што квалитетот на топлинската средина значително влијае на квалитетот на кристалите и ефикасноста на растот. Дизајнот на термичкото поле игра клучна улога во обликувањето на температурните градиенти и динамиката на ......
Прочитај повеќе