Електростатски чак Е-чак

Semicorex Electrostatic Chuck E-Chuck работи на принципите на електростатско привлекување, нудејќи сигурно и прецизно задржување на нафора без потреба од механички стеги или вакуумско вшмукување, особено користени во офорт, јонски импл-

антација, PVD, CVD, итн полупроводничка обработка. Неговите приспособливи димензии го прават приспособлив за широк опсег на апликации, што го прави идеален избор за компании кои бараат флексибилност и ефикасност во процесите на производство на полупроводници.

Основната технологија зад Електростатскиот чак E-Chuck од типот J-R е неговата способност да генерира електростатска сила помеѓу обландата и површината на чакот. Оваа сила се создава со примена на висок напон на електродите вградени во чак, што предизвикува полнења и на нафората и на чакот, со што се создава силна електростатска врска. Овој механизам не само што ја држи нафората безбедно, туку и го минимизира физичкиот контакт помеѓу обландата и чак, намалувајќи ја потенцијалната контаминација или механички стрес што може да ги оштети чувствителните полупроводнички материјали.

Semicorex може да произведе прилагодени производи, од 200 mm до 300 mm или дури и поголеми, во зависност од барањата на клиентите. Со нудење на овие приспособливи опции, ESC од типот J-R обезбедува максимална флексибилност за низа полупроводнички процеси, вклучувајќи плазма офорт, хемиско таложење на пареа (CVD), физичко таложење на пареа (PVD) и имплантација на јони.

Што се однесува до материјалите, Електростатскиот чак E-Chuck е направен од висококвалитетни керамички материјали, како што се алумина (Al2O3) или алуминиум нитрид (AlN), кои се познати по своите одлични диелектрични својства, механичка сила и термичка стабилност. Оваа керамика ја обезбедува чак со потребната издржливост за да ги издржи суровите услови на производството на полупроводници, како што се високи температури, корозивни средини и изложеност на плазма. Дополнително, керамичката површина е полирана до висок степен на мазност за да се обезбеди рамномерен контакт со нафората, зголемувајќи ја електростатската сила и подобрувајќи ги севкупните перформанси на процесот.

Електростатскиот чак E-Chuck е исто така дизајниран да се справи со термичките предизвици кои вообичаено се среќаваат при производството на полупроводници. Управувањето со температурата е критично за време на процеси како што се офорт или таложење, каде што температурата на обландата може брзо да варира. Керамичките материјали што се користат во чадот обезбедуваат одлична топлинска спроводливост, помагајќи ефикасно да се исфрла топлината и да се одржи стабилна температура на обландата.

Електростатскиот чак E-Chuck е дизајниран со акцент на минимизирање на контаминацијата со честички, што е критично во производството на полупроводници каде дури и микроскопските честички може да доведат до дефекти во финалниот производ. Мазната керамичка површина на чак ја намалува веројатноста за адхезија на честички, а намалениот физички контакт помеѓу обландата и чак, благодарение на механизмот за електростатско држење, дополнително го намалува ризикот од контаминација. Некои модели на ESC од типот J-R, исто така, вклучуваат напредни површински премази или третмани кои одбиваат честички и се спротивставуваат на корозија, зголемувајќи ја долговечноста и доверливоста на чакот во средини за чиста просторија.

Накратко, Електростатскиот чак E-Chuck од типот J-R е разноврсно и сигурно решение за држење нафора кое нуди исклучителни перформанси во широк опсег на процеси на производство на полупроводници. Неговиот приспособлив дизајн, напредната технологија за електростатско држење и робусните својства на материјалот го прават идеален избор за компаниите кои сакаат да го оптимизираат ракувањето со нафора додека ги одржуваат највисоките стандарди за чистота и прецизност. Без разлика дали се користи во плазма офорт, таложење или имплантација на јони, J-R типот ESC обезбедува флексибилност, издржливост и ефикасност потребни за да се задоволат потребите на денешната полупроводничка индустрија. Со својата способност да работи и во режимите Кулон и Џонсен-Рахбек, да се справува со високи температури и да се спротивстави на контаминација со честички, ESC од типот J-R стои како критична компонента во потрагата по повисоки приноси и подобрени резултати од процесот.