MOCVD 3x2'' ресивер

Semicorex MOCVD 3x2'' Susceptor е изработен со употреба на ултра-чисти графитни сорти кои се подложени на прецизен процес на обложување со силициум карбид (SiC). Овој слој на SiC служи повеќе критични функции, особено овозможувајќи исклучително ефикасен пренос на топлина на подлогата. Ефикасниот пренос на топлина е од клучно значење за постигнување рамномерна распределба на температурата низ подлогата, со што се обезбедува хомогено и висококвалитетно таложење на тенок филм, што е од витално значење во производството на полупроводнички уреди.

Едно од клучните размислувања за дизајнот на MOCVD 3x2'' Susceptor е компатибилноста на коефициентот на термичка експанзија (CTE) помеѓу графитната подлога и облогата од силициум карбид. Својствата на термичка експанзија на нашиот ултра чист графит внимателно се совпаѓаат со оние на силициум карбид. Оваа компатибилност го минимизира ризикот од термички напрегања и потенцијална деформација за време на високотемпературните циклуси својствени за процесот MOCVD. Одржувањето на структурниот интегритет под термички стрес е од суштинско значење за постојани перформанси и доверливост, со што се намалува веројатноста за дефекти во полупроводничките наполитанки.

Покрај термичката компатибилност, MOCVD 3x2'' Susceptor е дизајниран да покажува силна хемиска инертност кога е изложен на претходници хемикалии кои вообичаено се користат во MOCVD процесите. Оваа инертност е клучна за спречување на хемиски реакции помеѓу сусцепторот и прекурсорите, што може да доведе до контаминација и негативно да влијае на чистотата и квалитетот на депонираните филмови. Со обезбедување на хемиска компатибилност, суцепторот помага да се одржи интегритетот на тенките филмови и целокупните полупроводнички уреди.

Процесот на производство на подлогата Semicorex MOCVD 3x2'' вклучува високопрецизна обработка, осигурувајќи дека секоја единица ги исполнува строгите стандарди за квалитет и точност на димензиите. Секој сусцептор е подложен на сеопфатен тридимензионален преглед за да се потврди неговата прецизност и усогласеност со спецификациите на дизајнот. Овој ригорозен процес на контрола на квалитетот гарантира дека подлогите се држат безбедно и рамномерно, што е најважно за постигнување рамномерно таложење низ површината на обландата. Униформноста во таложењето е критична за перформансите и доверливоста на финалните полупроводнички уреди.

Удобноста на корисниците е уште еден камен-темелник на дизајнот на MOCVD 3x2'' Susceptor. Подлошката е дизајнирана да го олесни лесното товарење и растоварување на подлогите, значително зголемувајќи ја оперативната ефикасност. Оваа леснотија на ракување не само што го забрзува процесот на производство, туку и го минимизира ризикот од оштетување на подлогата за време на товарење и растоварување, а со тоа го подобрува целокупниот принос и ги намалува трошоците поврзани со кршењето на нафората и дефектите.

Понатаму, MOCVD 3x2'' Susceptor покажува исклучителна отпорност на силни киселини, кои често се користат за време на операциите на чистење за да се отстранат остатоците и загадувачите. Оваа отпорност на киселина осигурува дека суцепторот го одржува својот структурен интегритет и карактеристики на изведба во повеќе циклуси на чистење. Како резултат на тоа, работниот век на сусцепторот е продолжен, што придонесува за намалување на вкупните трошоци за сопственост и обезбедувајќи конзистентни перформанси со текот на времето.

Накратко, MOCVD 3x2'' Susceptor од Semicorex е високо софистицирана и напредна компонента која нуди мноштво предности, вклучително и супериорна ефикасност на пренос на топлина, топлинска и хемиска компатибилност, обработка со висока прецизност, лесен дизајн и робусна киселина. отпор. Овие карактеристики колективно ја прават неопходна алатка во процесот на производство на полупроводници, обезбедувајќи висококвалитетно, сигурно и ефикасно производство на полупроводнички наполитанки. Со интегрирање на напредниот MOCVD 3x2'' Susceptor во нивните процеси, производителите на полупроводници можат да постигнат повисоки приноси, подобри перформанси на уредот и поекономичен производствен циклус.