MOCVD капак на вакуумската комора

MOCVD вакуумската комора капак што се користи за раст на кристали и обработка на обланда мора да издржи високи температури и грубо хемиско чистење. Семикорекс капакот со вакуумска комора обложен со силикон карбид MOCVD, дизајниран специјално да се спротивстави на овие предизвикувачки средини. Нашите производи имаат добра ценовна предност и покриваат голем дел од европскиот и американскиот пазар. Со нетрпение очекуваме да станеме ваш долгогодишен партнер во Кина.

Испрати барање

Опис на производот

Компонентите на Semicorex Graphite се графит со висока чистота обложен SiC, кој се користи во процесот за растење на процесот на еден кристал и обланда. Соединението со капакот на вакуумската комора MOCVD има висока отпорност на топлина и корозија, се издржливи за да се доживее комбинација од испарливи прекурсорски гасови, плазма и висока температура.

Во Semicorex, ние сме посветени на обезбедување производи и услуги со висок квалитет на нашите клиенти. Ние ги користиме само најдобрите материјали, а нашите производи се дизајнирани да ги задоволат највисоките стандарди за квалитет и перформанси. Нашиот капак на вакуумската комора MOCVD не е исклучок. Контактирајте не денес за да дознаете повеќе за тоа како можеме да ви помогнеме со вашите потреби за обработка на полупроводнички обланди.

Параметри на капакот на вакуумската комора MOCVD

Главни спецификации на CVD-SIC облогата
Својства на SiC-CVD
Кристална структура	Фаза FCC Î²
Густина	g/cm ³	3.21
Цврстина	Викерс цврстина	2500
Големина на зрно	¼ м	2~10
Хемиска чистота	%	99.99995
Топлински капацитет	J·kg-1·K-1	640
Температура на сублимација	℃	2700
Фелексурална сила	MPa (RT 4-точка)	415
Модул на Јанг	Gpa (свиткување од 4 точки, 1300)	430
Термичка експанзија (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Топлинска спроводливост	(W/mK)	300