Носач за ракување со PSS за пренос на нафора

Носачот за ракување со PSS за пренос на нафора на Semicorex е дизајниран за најсложените апликации за опрема за епитаксија. Нашиот ултра-чист носач на графит може да издржи сурови средини, високи температури и грубо хемиско чистење. Носачот обложен со SiC има одлични својства за дистрибуција на топлина, висока топлинска спроводливост и е исплатлив. Нашите производи се широко користени на многу европски и американски пазари и со нетрпение очекуваме да станеме ваш долгорочен партнер во Кина.

Испрати барање

Опис на производот

Носачот за ракување со PSS за пренос на нафора од Semicorex е дизајниран да ги исполни барањата за високотемпературно и сурово хемиско чистење за епитаксијалниот раст и процесите на ракување со нафора. Нашиот ултра-чист носач на графит е идеален за фази на таложење на тенок филм како MOCVD, сензори за епитаксии, платформи за палачинки или сателити и обработка на обланда, како што е офорт. Носачот обложен со SiC има одлични својства за дистрибуција на топлина, висока топлинска спроводливост и е исплатлив.

Контактирајте не денес за да дознаете повеќе за нашиот носач за ракување со PSS за пренос на нафора.

Параметри на носачот за ракување со PSS за пренос на нафора

Главни спецификации на CVD-SIC облогата
Својства на SiC-CVD
Кристална структура	Фаза FCC Î²
Густина	g/cm ³	3.21
Цврстина	Викерс цврстина	2500
Големина на зрно	¼ м	2~10
Хемиска чистота	%	99.99995
Топлински капацитет	J·kg-1·K-1	640
Температура на сублимација	℃	2700
Фелексурална сила	MPa (RT 4-точка)	415
Модул на Јанг	Gpa (свиткување од 4 точки, 1300)	430
Термичка експанзија (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Топлинска спроводливост	(W/mK)	300