Носач за обложување RTP SiC

Semicorex RTP SiC Coating Carrier нуди супериорна отпорност на топлина и топлинска униформност, што го прави совршено решение за апликации за обработка на полупроводнички обланди. Со својот висококвалитетен графит обложен со SiC, овој производ е дизајниран да ја издржи најтешката средина за таложење за епитаксијален раст. Високата топлинска спроводливост и одличните својства на дистрибуција на топлина обезбедуваат сигурни перформанси за RTA, RTP или грубо хемиско чистење.

Испрати барање

Опис на производот

Нашиот носач за обложување RTP SiC е дизајниран да ги издржи најтешките услови во околината за таложење. Со неговата висока отпорност на топлина и корозија, епитаксиите се подложени на совршена средина за таложење за епитаксијален раст. Финиот SiC кристален слој на носачот обезбедува мазна површина и висока издржливост против хемиско чистење, додека материјалот е дизајниран да спречи пукнатини и раслојување.
Во Semicorex, ние се фокусираме на обезбедување на висококвалитетен, исплатлив RTP SiC носач за обложување, даваме приоритет на задоволството на клиентите и обезбедуваме економични решенија. Со нетрпение очекуваме да станеме ваш долгорочен партнер, обезбедувајќи производи со висок квалитет и исклучителна услуга за клиентите.
Контактирајте не денес за да дознаете повеќе за нашиот носач за обложување RTP SiC.

Параметри на RTP SiC обложување носач

Главни спецификации на CVD-SIC облогата
Својства на SiC-CVD
Кристална структура	Фаза FCC Î²
Густина	g/cm ³	3.21
Цврстина	Викерс цврстина	2500
Големина на зрно	¼ м	2~10
Хемиска чистота	%	99.99995
Топлински капацитет	J·kg-1·K-1	640
Температура на сублимација	℃	2700
Фелексурална сила	MPa (RT 4-точка)	415
Модул на Јанг	Gpa (свиткување од 4 точки, 1300)	430
Термичка експанзија (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Топлинска спроводливост	(W/mK)	300

Карактеристики на носачот за обложување RTP SiC

Графит обложен со SiC со висока чистота
Супериорна отпорност на топлина и топлинска униформност
Фин SiC кристал обложен за мазна површина
Висока издржливост против хемиско чистење
Материјалот е дизајниран така што да не се појавуваат пукнатини и раслојување.