Дома > Производи > Керамика > Силициум карбид (SiC) > Епитаксијален брод со нафора
Производи
Епитаксијален брод со нафора
  • Епитаксијален брод со нафораЕпитаксијален брод со нафора
  • Епитаксијален брод со нафораЕпитаксијален брод со нафора
  • Епитаксијален брод со нафораЕпитаксијален брод со нафора
  • Епитаксијален брод со нафораЕпитаксијален брод со нафора
  • Епитаксијален брод со нафораЕпитаксијален брод со нафора

Епитаксијален брод со нафора

Semicorex обезбедува чамци за нафора, постаменти и сопствени носачи на нафора и за вертикални / колони и за хоризонтални конфигурации. Ние сме производител и снабдувач на филм за обложување силициум карбид многу години. Нашиот Епитаксијален брод со нафора има добра ценовна предност и покрива поголем дел од европскиот и американскиот пазар. Со нетрпение очекуваме да станеме ваш долгогодишен партнер во Кина.

Испрати барање

Опис на производот

Semicorex Epitaxial Wafer Boat, совршено решение за обработка на нафора во производството на полупроводници. Нашите Epitaxial Wafer Boats се направени од висококвалитетна керамика од силициум карбид (SiC) која обезбедува супериорна отпорност на високи температури и хемиска корозија.
Нашиот чамец со силициум карбид епитаксијален нафора има мазна површина што го минимизира создавањето на честички, обезбедувајќи највисоко ниво на чистота за вашите производи. Со одлична топлинска спроводливост и супериорна механичка сила, нашите чамци обезбедуваат постојани и сигурни резултати.
Нашите Epitaxial Wafer Boats се компатибилни со целата стандардна опрема за обработка на нафора и можат да издржат температури до 1600°C. Тие се лесни за ракување и чистење, што ги прави рентабилен и ефикасен избор за вашите производствени потреби.
Нашиот тим од експерти е посветен на обезбедување на најдобар квалитет и услуга. Ние нудиме сопствени дизајни за да ги задоволат вашите специфични барања, а нашите производи се поддржани од нашата програма за обезбедување квалитет.


Параметри на епитаксијален брод со нафора

Технички својства

Индекс

Единица

Вредност

Име на материјалот

Реакција синтеруван силициум карбид

Силикон карбид без притисок

Рекристализиран силициум карбид

Состав

RBSiC

SSiC

R-SiC

Масовна густина

g/cm3

3

3,15 ± 0,03

2,60-2,70

Јачина на свиткување

MPa (kpsi)

338 (49)

380(55)

80-90 (20°C) 90-100 (1400°C)

Јачина на притисок

MPa (kpsi)

1120 (158)

3970(560)

> 600

Цврстина

Копче

2700

2800

/

Кршење на издржливост

MPa m1/2

4.5

4

/

Топлинска спроводливост

W/m.k

95

120

23

Коефициент на термичка експанзија

10-6.1/°C

5

4

4.7

Специфична топлина

Џул/г 0к

0.8

0.67

/

Максимална температура во воздухот

1200

1500

1600

Еластичен модул

Gpa

360

410

240


Разликата помеѓу SSiC и RBSiC:

1. Процесот на синтерување е различен. RBSiC треба да го инфилтрира слободниот Si во силициум карбид на ниска температура, SSiC се формира со природно собирање на 2100 степени.

2. SSiC имаат помазна површина, поголема густина и поголема јачина, за некои заптивки со построги барања за површината, SSiC ќе биде подобар.

3. Различно искористено време под различна PH и температура, SSiC е подолго од RBSiC


Карактеристики на епитаксијален брод со нафора од силикон карбид

SiC со висока чистота обложен со MOCVD
Супериорна отпорност на топлина и топлинска униформност
Фин SiC кристал обложен за мазна површина
Висока издржливост против хемиско чистење
Материјалот е дизајниран така што да не се појавуваат пукнатини и раслојување.



Жешки тагови: Епитаксијален брод со нафора, Кина, производители, добавувачи, фабрички, приспособени, рефус, напредни, издржливи
Поврзана категорија
Испрати барање
Ве молиме слободно дајте го вашето барање во формата подолу. Ќе ви одговориме за 24 часа.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept