SiC пиедестал

Semicorex SiC пиедестал е високопрецизна, мултифункционална хардверска компонента дизајнирана да обезбеди термичка стабилност и сложена дистрибуција на течности потребни за напредни микроканални системи за реакција. Semicorex е специјализиран за инженерство и снабдување со овие високо-чисти SiC постаменти според потребите на клиентите.*

Испрати барање

Опис на производот

Во ерата на хемијата на проток и интензивирање на процесите, хардверот што го регулира преносот на топлина и хемиската отпорност ги одредува границите на ефикасноста на производството. Semicorex SiC пиедестал е прецизно дизајнирана основна компонента дизајнирана специјално за ригорозни средини на микроканални реактори (MCR). Комбинирање на екстремната хемиска инертност наSSiC(Синтерувано без притисокСилициум карбид) со напредна микро-машинска обработка, овој пиедестал служи како основа за сигурна, континуирана и високо егзотермна хемиска синтеза.

Улогата на пиедесталот SiC

Перформансите на микроканалниот реактор се потпираат на неговата способност да управува со брзата кинетика во под-милиметарски канали. SiC пиедесталот делува како структурно и функционално „срце“ на оџакот на реакторот:

Дистрибуција и мешање на течности: сложената низа на микро-решетки видливи на површината функционира како дистрибутивна мрежа. Овие порти обезбедуваат еднообразно вбризгување на реактантите во микроканалите, олеснувајќи го моменталното мешање и спречувајќи локални градиенти на концентрација.

Управување со термички градиент: Со оглед на исклучителната топлинска спроводливост на SiC (обично 120W/(m·K)), овој пиедестал делува како високоефикасно ладилник или предгрејач. Ефикасно ги елиминира „жешките точки“ во реакциите со висока енергија, како што се нитрацијата или пероксидацијата, кои често се премногу опасни за традиционалните сериски реактори.

Структурна платформа: Постаментот ја обезбедува потребната плошност и механичка цврстина потребни за вакуумско запечатување или дифузно поврзување со горните реакциони плочи, обезбедувајќи перформанси на нула истекување во услови на проток под висок притисок.

Апликации

Нашите постаменти SiC се користат во најпредизвикувачките хемиски процеси „Зона 0“:

Егзотермички реакции на течност-течност: нитрација, сулфонација и халогенација.

Опасна хемија: Дијазотизација и реакции кои вклучуваат озон или пероксиди.

Синтеза на наноматеријали: Прецизна контрола над времето на престој и температурата за да се постигне рамномерна дистрибуција на големината на честичките.

Фармацевтски посредници: Обезбедување средини за синтеза без метал за чувствителни молекуларни структури.