Еднокристален силиконски туш

Семикорекс монокристален силициумтуш кабинапокажува исклучителна отпорност на корозија, низок коефициент на експанзија и одлична топлинска спроводливост. Цврсто се прилагодува на суровите услови на висока температура, висока корозивност и висок вакуум во производството на полупроводници, тој покажува исклучителна толеранција на процесите на гасови како што се гасовите за офорт и таложење. Затоа, тушот со еднокристален силикон е широко користен во процесите на чистење на полупроводници, процеси на оксидација, процеси на таложење и процеси на офорт.

Semicorex користи напредни техники за површинска обработка за да се осигури дека површината на туш кабината со еднокристален силикон има и екстремно висока плошност и мазност. Во меѓувреме, потпирајќи се на стандардизираниот дизајн на структурата на каналот и патеката на гасот, површината на тушот со еднокристално силикон е рамномерно распоредена со многу пори со ист дијаметар (минималниот дијаметар може да достигне 0,2 милиметри). Толеранцијата на дијаметарот на пората на еднокристалното силиконско туширање е прецизно контролирано на ниво на микрометар, а внатрешниот ѕид на порите мора да биде мазен и без бруси, обезбедувајќи точност на дистрибуција и униформност на процесниот гас од структурни и процесни аспекти.

Semicorex обезбедува стручни услуги за прилагодување за да се задоволат различните потреби на клиентите. Според различните потреби на своите клиенти, може да ги приспособи решенијата за изглед за да одговараат на димензиите и формата на нивните комори за реакција. Оптимизираниот дизајн им овозможува на наполитанките да воспостават целосен и конзистентен контакт со процесниот гас во текот на процесот на реакција со тоа што гарантира дека гасот е рамномерно дисперзиран низ комората за реакција. Ова на крајот ја подобрува ефикасноста на производството и квалитетот на производот.